|
Популярные книги |
|
|
|
« НАНОТЕХНОЛОГИИ » |
25 июня 2012 |
ИОННО-ПЛАЗМЕННЫЕ ПРОЦЕССЫ В ТОНКОПЛЕНОЧНОЙ ТЕХНОЛОГИИ |
№ 56266692 |
|
|
ОписаниеНастоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по основным вакуумным плазмохимическим процессам в тонкопленочной технологии — реактивному магнетронному нанесению тонких пленок и ионно-плазменному травлению. В ней обобщено современное состояние этих процессов. Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок и плазмохимических установок для травления тонких пленок. Рассмотрены технологические особенности их использования. Описаны способы управления процессами реактивного нанесения тонких пленок и использования среднечастотных импульсных источников питания. Показаны технологические особенности получения тонких пленок тройных химических соединений методом реактивного магнетронного сораспыления. Описана структура получаемых пленок и ее зависимость от параметров процесса нанесения. Приведены принципы конструирования источника высокочастотного разряда высокой плотности для ионного или плазмохимического прецизионного травления тонких пленок, а также его использования для стимулированного плазмой осаждения тонких пленок. Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
Ключевые теги: процесс, магнетрон, травление, использование, нанесение, технолог, книга, нанотехнология, изготовление, источник, особенность, разработка, исследование, плотность, плазма, берлин
|
|
(голосов: 7) |
Уважаемый посетитель вы вошли на сайт как незарегистрированный пользователь. Мы рекомендуем вам зарегистрироваться либо войти на сайт под своим именем. |
|
Посетители, находящиеся в группе Гости, не могут оставлять комментарии в данной новости. |
|
|